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La società cinese Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) ha presentato una domanda di brevetto per una macchina di litografia EUV (Extreme Ultraviolet) a marzo 2023.
La notizia, riportata dal South China Morning Post, rappresenta un passo significativo negli sforzi della Cina per sviluppare tecnologie avanzate, e proprietarie, di produzione di chip.
Il brevetto si concentra sui "generatori di radiazioni EUV e apparecchiature litografiche", in particolare su un componente chiave delle macchine EUV: una sorgente di plasma prodotta da laser (LPP).
Questo sistema utilizza un laser CO2 per creare plasma ionizzato da goccioline di stagno, generando luce EUV a 13,5 nm riflessa da uno speciale specchio multistrato.
SMEE è il principale produttore cinese di apparecchiature litografiche. Attualmente, l'azienda fornisce ai clienti cinesi il suo strumento litografico più avanzato, l'SSX600, in grado di produrre chip con tecnologie di processo a 90nm, 110nm e 280nm.
Nel 2022, SMEE ha annunciato di essere sulla buona strada per dimostrare un sistema a 28nm nel 2023, anche se non è chiaro se sia iniziata la produzione in serie di questo strumento.
La litografia EUV è fondamentale per la produzione di chip con nodi tecnologici avanzati come 7nm, 5nm e 3nm. Attualmente, il produttore cinese SMIC utilizza la litografia DUV (Deep Ultraviolet) con tecniche di multi-patterning per i suoi processi a 7nm, una soluzione meno efficiente in termini di ciclo produttivo e resa.
Il deposito del brevetto da parte di SMEE rappresenta un passo importante negli sforzi della Cina per sviluppare proprie tecnologie di litografia EUV. Sebbene sia difficile prevedere quando l'azienda sarà in grado di costruire un sistema EUV di produzione utilizzabile per la fabbricazione di chip su larga scala, è evidente che sta facendo progressi significativi in questa direzione.
SMEE non è l'unica azienda cinese a presentare brevetti relativi alla litografia EUV. Anche Huawei ha depositato un brevetto correlato nel 2022. Questi sviluppi segnano una tappa importante nell'impegno della Cina per sviluppare capacità indipendenti di produzione di semiconduttori.
Se SMEE riuscirà a produrre strumenti DUV e EUV avanzati, ciò aiuterà la Cina a ridurre la sua dipendenza da aziende straniere come ASML, l'unico produttore mondiale di strumenti litografici EUV, e a rafforzare la sua posizione nel mercato globale dei semiconduttori.
È importante notare che spesso i brevetti vengono depositati molto prima della commercializzazione. Uno strumento di litografia EUV è una macchina estremamente complessa che utilizza decine di innovazioni high-tech sviluppate nell'arco di tre decenni. Resta da vedere se SMEE sarà in grado di replicare tali progressi in pochi anni.